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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GMSD2000墨水染料研磨機(jī)膠體磨

    墨水染料研磨機(jī)膠體磨 工作原理:研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

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    2025-09-09

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  • XMD2000煙用香精濃縮液高剪切膠體磨

    煙用香精濃縮液高剪切膠體磨定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

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  • XMD2000碳酸氫鈉注射液均質(zhì)膠體磨

    碳酸氫鈉注射液均質(zhì)膠體磨定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

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  • XMD2000β環(huán)糊精高剪切均質(zhì)乳化機(jī)

    β環(huán)糊精高剪切均質(zhì)乳化機(jī) 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

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  • XMD2000脫細(xì)胞真皮基質(zhì)膠體磨

    脫細(xì)胞真皮基質(zhì)膠體磨定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

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  • XMD2000二氧化硅消光粉高速膠體磨

    二氧化硅消光粉高速膠體磨定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

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  • XMD2000阿莫西林混懸液超高速膠體磨

    阿莫西林混懸液超高速膠體磨定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

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  • XMD2000楓香脂蕓香浸膏膠體磨

    楓香脂蕓香浸膏膠體磨由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來(lái)的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。

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