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  • GMD2000超高速納米研磨分散機

    超高速納米研磨分散機,高剪切超細研磨分散機,超細乳化設備,進口研磨分散機,對于研磨分散機來說Z大的一個目的就是要達到乳化的效果,那么從設備角度來說影響乳化效果的因素有哪些呢? 1、乳化頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好) 2、乳化頭的剪切速率(越大,效果越好) 3、乳化頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好) 4、物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作

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    2025-09-06

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  • GMD2000色素混懸油研磨分散機

    色素混懸油研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。

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  • XRS2000硬脂酸鋅高剪切研磨分散機

    硬脂酸鋅高剪切研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000聚酰亞胺高剪切沉析分散機

    聚酰亞胺高剪切沉析分散機在溶液中剪切力的作用下急易形成各向異形態織構具有高強力的剪切力,將高模量液晶態的原液與溶劑迅速進入腔體內混合分散剪切,并調節轉速至工作轉速,同時打開兩處計量泵,開始進行纖維化反應,后經硬化的纖維經過分散盤時被細化至漿粕要求的尺寸大小得到高性能的芳綸纖維漿粕。

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  • XMD2000釩酸鉍高剪切研磨分散機

    釩酸鉍高剪切研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000多壁碳納米管導電劑分散機

    多壁碳納米管導電劑分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

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  • XMD2000復合碳材料高剪切分散機

    復合碳材料高剪切分散機研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000復合催化劑高剪切分散機

    復合催化劑高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

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