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研磨分散均質(zhì)乳化一體機(jī)

研磨分散均質(zhì)乳化一體機(jī),特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。該設(shè)備是由SID膠體磨在原來(lái)立式分體結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上進(jìn)行進(jìn)一步改造,配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)的精密零部件,使其工作噪音降低到73DB以下。

  • 產(chǎn)品型號(hào):GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-26
  • 訪  問(wèn)  量:227
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詳細(xì)介紹

研磨分散均質(zhì)乳化一體機(jī)

太倉(cāng)希德研發(fā)的一體化研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。該設(shè)備是由SID膠體磨在原來(lái)立式分體結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上進(jìn)行進(jìn)一步改造,配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)的精密零部件,使其工作噪音降低到73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。并且在膠體磨的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,并加入了一級(jí)分散盤(pán)。

GMD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力,對(duì)有一定粘稠度物料,該設(shè)備設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散均質(zhì)乳化一體機(jī)


本設(shè)備在設(shè)計(jì)上的突出優(yōu)點(diǎn)在于:

1.可更換式加工模塊,實(shí)現(xiàn)分散、均質(zhì)、乳化、懸浮、濕磨、 粉液混合等多種功能。
2.專(zhuān)為實(shí)驗(yàn)室模擬工業(yè)管線式生產(chǎn)而設(shè)計(jì),從中試到生產(chǎn),無(wú)需重新調(diào)整工藝參數(shù) 。
3.雙端面機(jī)械密封,可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)24小時(shí)不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)。
4.可配置變頻控制柜,調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速及流量 。
5.拆卸方便,容易清洗。
6.設(shè)備設(shè)計(jì)合理,方便實(shí)用。

特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不單單是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)重要的區(qū)別是:不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。


研磨分散均質(zhì)乳化一體機(jī)的特點(diǎn):


更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念,將xian進(jìn)的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供chao強(qiáng)切割力,纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目.

更可靠 采用整體式機(jī)械密封,程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問(wèn)題,安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國(guó)際xian進(jìn)的受控切割技術(shù),將纖維類(lèi)物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿(mǎn)足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.

研磨分散均質(zhì)乳化一體機(jī)





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